臺(tái)灣網(wǎng)4月18日訊  據(jù)臺(tái)灣“中時(shí)電子報(bào)”報(bào)道， 國際半導(dǎo)體行業(yè)權(quán)威分析機(jī)構(gòu)Linley Group最新報(bào)告指出，英特爾長期晶片製造技術(shù)優(yōu)勢已正在消失，且新製程開發(fā)也落後競爭對(duì)手，臺(tái)積電、三星和格羅方德等不排除在2021年超車英特爾。

　　Linley Group首席分析師Linley Gwennap在報(bào)告中解析各家晶片電路“密度”，儘管各家製程命名不太一樣，但與英特爾的差距正逐漸縮小，如臺(tái)積電的7奈米製程與英特爾的10奈米幾乎非常接近。

　　Linley Gwennap認(rèn)為，臺(tái)積電、三星和格羅方德等3大競爭對(duì)手，在採購下一世代微影技術(shù)設(shè)備均比英特爾超前，3家業(yè)者有可能在2021年時(shí)超越英特爾。

　　此前《經(jīng)濟(jì)學(xué)人》雜誌也曾提到，英特爾依循“摩爾定律”，過去在製程技術(shù)上一路領(lǐng)先，目前晶片生産技術(shù)為10奈米，臺(tái)積電則超前至7奈米，尤其臺(tái)積電將在6月出貨最先進(jìn)製程的半導(dǎo)體，搶下全球最強(qiáng)晶片的寶座，英特爾淪為老二。（臺(tái)灣網(wǎng) 王怡然）